PLASM Co., Ltd. 是一家成立于2016年的专业等离子体表面处理及半导体工艺设备制造商，位于京畿道华城市。基于自主研发的大气压低温等离子体核心技术，公司为半导体、显示器、二次电池、纤维等多种尖端产业领域提供干式表面处理及清洗解决方案。作为KOSDAQ上市公司Justek的子公司，公司持续进行掩膜版（Blank Mask）表面处理及OLED印刷前处理设备等高难度技术开发。

PLASM Co., Ltd. 基于尖端大气压等离子体技术，提供满足多种产业需求的创新型表面处理解决方案。我们的技术重点在于通过提升质量、最大化效率以及环保型方案，助力客户的商业成功。我们将通过不断的研发和以客户为中心的服务，为开创全产业更美好的未来做出贡献。

业务领域

等离子体表面处理及清洗设备：利用大气压低温等离子体技术，开发并制造干式表面处理解决方案，在防止半导体、显示器、薄膜、太阳能等尖端材料热变形的同时，去除表面污染物并提高附着力。

半导体光刻工艺设备及零部件： 供应光掩膜核心材料——掩膜版表面处理设备及超声波清洗（USC）装置等半导体制造工艺用设备及零部件。

表面处理代加工及设备租赁： 提供旨在支持各产业定制化等离子体表面处理技术的设备租赁及表面改性代加工服务。

主要产品

大气压等离子体表面处理设备： 在60~80度以下的低温环境下，最大限度减少电弧（Arc）产生及静电问题，并最大化亲水性和表面附着力的多喷嘴等离子体表面处理系统。

掩膜版表面处理及USC清洗设备： 在半导体及FPD用掩膜版制造工艺中，用于增强光刻胶涂布前的附着力并去除微小颗粒的高密度等离子体及超声波清洗机。

工业用等离子体模块及自动化系统： 可集成于OLED边框印刷前处理、纤维及二次电池加工生产线等的等离子体源及定制化自动化设备。

核心优势

独有的低温高密度等离子体技术： 掌握了防止材料热变形的低温大气压等离子体核心技术，即使是对高温敏感的尖端电子及纤维材料，也能在无损伤的情况下进行精密表面改性。

国策课题执行及大企业联合开发业绩： 执行韩国产业通商资源部的OLED零部件国策课题，并与大型半导体·显示器材料企业成功进行联合设备开发，技术可靠性得到认可。

与母公司Justek的协同基础设施： 依托KOSDAQ上市公司Justek的生产设施及全球网络基础设施，确保了稳定的研发及设备量产能力。

招聘分析

主要招聘岗位： 设备组装及制造、等离子体工艺/机构设计、机械/电气控制工程师、生产管理

雇佣模式： 精简人才结构，主要根据人员空缺或项目扩展进行不定期招聘

💡 JOBPLOY的寄语

PLASM Co., Ltd. 是一家制造半导体及显示器用精密等离子体设备的技术密集型中小企业。生产及组装现场要求具备精密零部件处理能力及对洁净室环境的理解，因此遵守安全守则以及掌握基本的图纸阅读和机械组装能力非常重要。由于是10人左右的小型企业，部门间协作频繁，建议具备良好的韩语沟通能力和诚实的工作态度。